武汉大学：《分析化学》课程教学资源（PPT课件讲稿）第四章 配位滴定法（4.1）概述

第四章配位滴定法

1 第四章 配位滴定法

内容提要 概述 EDTA的性质及其配位物 配位解离平衡及影响因素 ·配位滴定基本原理 ·金属指示剂 ·提高与配位滴定选择性的方法 ·配位滴定的应用

2 内容提要 • 概述 • EDTA的性质及其配位物 • 配位解离平衡及影响因素 • 配位滴定基本原理 • 金属指示剂 • 提高与配位滴定选择性的方法 • 配位滴定的应用

54-1概述 配位滴定:以配位反应为基础的滴定分析方法 (complexometric titration) 配合物根据配体类型的不同,可分为无机配合物 和有机配合物。无机配合物不够稳定,且存在逐级 配位现象,不适宜滴定

3 §4-1 概述 配位滴定：以配位反应为基础的滴定分析方法 (complexometric titration)。 配合物根据配体类型的不同，可分为无机配合物 和有机配合物。无机配合物不够稳定，且存在逐级 配位现象，不适宜滴定

如Cu2和NH3的配位反应分四级反应 第一级Cu2++NH3、∈u(NH3)2+K1=10431 第二级Cu(NH3)2++NHCu(NH)2+ K2=10367 第三级Cu(NH3)2++NH3Cu(NH3)32+ K2=10304 第四级Cu(NH3)32++NH3Cu(NH3)42+ KA=102.30 K1K2,K3K4称为铜氨配离子的逐级稳定常数

4 如Cu2+和NH3的配位反应分四级反应 第一级 Cu2+ + NH3 Cu(NH3 ) 2+ K1=104.31 第二级 Cu(NH3 ) 2+ + NH3 Cu(NH3 )2 2+ K2=103.67 第三级 Cu(NH3 )2 2+ + NH3 Cu(NH3 )3 2+ K3=103.04 第四级 Cu(NH3 )3 2+ + NH3 Cu(NH3 )4 2+ K4=102.30 K1 ,K2 , K3 ,K4称为铜氨配离子的逐级稳定常数

有机配合物特点 1很少有分级配位现象 2稳定常数大 3稳定性高 乙二氨四乙酸( ethylenediamine tetraacetic acid,EDTA)配位剂最为重要

5 有机配合物特点： 1.很少有分级配位现象 2.稳定常数大 3.稳定性高 乙二氨四乙酸（ethylenediamine tetraacetic acid,EDTA）配位剂最为重要