武汉大学：《分析化学》课程教学资源（PPT课件讲稿）第四章 配位滴定法（4.6）提高配位滴定选择性的方法

54-6提高配位滴定选择性的方法 、选择性滴定可能性判断 当M与N两种金属离子共存时,它们均可与EDTA配 位,要准确滴定M,而N离子不干扰。经推导计算 得 △lgK>5(CM>CN) 若不能满足条件,要采用方法提高滴定的选择性

1 §4-6 提高配位滴定选择性的方法 一、选择性滴定可能性判断 当M与N两种金属离子共存时，它们均可与EDTA配 位，要准确滴定M，而N离子不干扰。经推导计算 ，得： lgK5 (CM>CN) 若不能满足条件，要采用方法提高滴定的选择性

二、提高配位滴定选择性的途径 1.掩蔽和解蔽法提高配位滴定的选择性 M与N共存,都能与EDTA配位,但又不满足选择滴 定的要求,在这种情况下,需加入一种合适的试剂 先与干扰离子作用,以消除干扰,这种方法为掩蔽 法,所加试剂称为掩蔽剂

2 二、提高配位滴定选择性的途径 1. 掩蔽和解蔽法提高配位滴定的选择性 M与N共存，都能与EDTA配位，但又不满足选择滴 定的要求，在这种情况下，需加入一种合适的试剂， 先与干扰离子作用，以消除干扰，这种方法为掩蔽 法，所加试剂称为掩蔽剂

常用的掩蔽法: ①1)配位掩蔽法 (2沉淀掩蔽法 (3)氧化还原掩蔽法 (1)配位掩蔽法 加入某种配位剂作掩蔽剂与N离子形 成稳定的配合物,从而降低溶液中N离 子的浓度,达到选择性滴定M的目的。 例如在A3,Zn2两种离子共存的溶液中 测定Zn2+

3 常用的掩蔽法： (1)配位掩蔽法 (2)沉淀掩蔽法 (3)氧化还原掩蔽法 （1）配位掩蔽法 加入某种配位剂作掩蔽剂与N离子形 成稳定的配合物，从而降低溶液中N离 子的浓度，达到选择性滴定M的目的。 例如 在Al3+, Zn2+两种离子共存的溶液中 测定Zn2+

(2)沉淀掩蔽法 沉淀掩蔽法:加入某种沉淀剂,使N 离子生成沉淀,以降低其浓度,这种 方法为沉淀掩蔽法。 例如在Ca2+,Mg2共存的溶液中,测 定Ca2+的含量

4 （2）沉淀掩蔽法 沉淀掩蔽法：加入某种沉淀剂，使N 离子生成沉淀，以降低其浓度，这种 方法为沉淀掩蔽法。 例如 在Ca2+ ，Mg2+共存的溶液中，测 定Ca2+的含量

(3)氧化还原掩蔽法 加入某种氧化剂或还原剂使与N 离子发生氧化还原反应,改变其价 态,使原价态的N离子浓度降低, 从而可选择性滴定M,这种掩蔽方 法称为氧化还原掩蔽法。 例如有Fe存在时,测定Bi等离 子的含量

5 （3）氧化还原掩蔽法 加入某种氧化剂或还原剂使与N 离子发生氧化还原反应，改变其价 态，使原价态的N离子浓度降低， 从而可选择性滴定M，这种掩蔽方 法称为氧化还原掩蔽法。 例如 有Fe3+存在时，测定Bi3+等离 子的含量

(4)解蔽作用 利用一种试剂,使已被掩蔽剂掩蔽的金属 离子释放出来,这一过程称为解蔽。 例如测定铜合金的锌和铅。 2应用其他配位剂提高配位滴定的选择性

6 （4）解蔽作用 利用一种试剂，使已被掩蔽剂掩蔽的金属 离子释放出来，这一过程称为解蔽。 例如 测定铜合金的锌和铅。 2.应用其他配位剂提高配位滴定的选择性